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多功能(neng)EVG7300 UV納米壓印光刻系統可以(yi)支持多種(zhong)相關的(de)UV工藝(yi):SmartNIL，晶圓級光學(xue)(WLO)和(he)堆(dui)疊-三(san)種(zhong)功能(neng)合(he)并在一個(ge)靈活的(de)工具(ju)中

納(na)米壓印(yin)支持多(duo)(duo)種標(biao)準光刻工(gong)藝(yi)，例如真空，軟(ruan)，硬(ying)和接近(jin)曝光模式，并(bing)可選擇背(bei)面對(dui)準。此外，該(gai)系(xi)統還為多(duo)(duo)功(gong)(gong)能配(pei)置提供了附加功(gong)(gong)能，包括鍵對(dui)準和納(na)米壓印(yin)光刻（NIL）。

EVG6200 NT以其(qi)自(zi)動(dong)化靈活性(xing)和(he)(he)可靠性(xing)而著稱(cheng)，可在最小的(de)(de)(de)占(zhan)位面(mian)積上提供了優(you)于其(qi)他品牌的(de)(de)(de)掩(yan)模(mo)(mo)對(dui)準技術，并具(ju)有最高的(de)(de)(de)產能，先(xian)進(jin)的(de)(de)(de)對(dui)準功能和(he)(he)優(you)化的(de)(de)(de)總擁有成本。操作(zuo)員(yuan)友好型軟(ruan)件(jian)，最短(duan)的(de)(de)(de)掩(yan)模(mo)(mo)和(he)(he)工具(ju)更(geng)換時間以及高效的(de)(de)(de)全球服務和(he)(he)支持使它成為(wei)任何制造環(huan)境的(de)(de)(de)理想解(jie)決方案。EVG6200 NT或安裝的(de)(de)(de)EVG6200 NT Gen2掩(yan)模(mo)(mo)對(dui)準系統有半(ban)自(zi)動(dong)或自(zi)動(dong)配置(zhi)，并配有集(ji)成的(de)(de)(de)振動(dong)隔離功能。

光(guang)刻(ke)機Track系(xi)統通過(guo)集(ji)成的生產(chan)系(xi)統和(he)結合(he)掩模(mo)(mo)(mo)對準(zhun)(zhun)和(he)曝光(guang)以及集(ji)成的預處理(li)和(he)后處理(li)的高(gao)度(du)自動化功能，完善了(le)EVG光(guang)刻(ke)機產(chan)品(pin)系(xi)列。HERCULES光(guang)刻(ke)機Track系(xi)統基于模(mo)(mo)(mo)塊(kuai)化平(ping)臺，將(jiang)EVG已建立(li)的光(guang)學(xue)掩模(mo)(mo)(mo)對準(zhun)(zhun)技術與集(ji)成的清潔，光(guang)刻(ke)膠涂層，烘烤和(he)光(guang)刻(ke)膠顯影模(mo)(mo)(mo)塊(kuai)相結合(he)。將(jiang)HERCULES平(ping)臺變成了(le)“一站式服務(wu)”，在這里將(jiang)經(jing)過(guo)預處理(li)的晶圓裝載(zai)到(dao)工具中，然后將(jiang)結構化的經(jing)過(guo)處理(li)的晶圓退回。

長達 150 毫米的(de)自動化全場(chang)紫外納(na)米壓印解(jie)決(jue)方案(an)，采用(yong) EVG 專有的(de) SmartNIL 技(ji)術

我們的(de)(de)(de)EVG770分(fen)步重復(fu)(fu)納米(mi)壓印光刻(ke)機是用于步進(jin)(jin)式(shi)納米(mi)壓印光刻(ke)的(de)(de)(de)通用平臺(tai)，可用于有效(xiao)地進(jin)(jin)行母(mu)版(ban)(ban)制作或對基(ji)板(ban)上的(de)(de)(de)復(fu)(fu)雜(za)結構進(jin)(jin)行直接(jie)圖(tu)案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的(de)(de)(de)小模(mo)具到蕞大300 mm基(ji)板(ban)尺寸的(de)(de)(de)大面積均勻(yun)地復(fu)(fu)制模(mo)板(ban)。結合金(jin)剛石車削(xue)或直接(jie)寫入方法，分(fen)步重復(fu)(fu)刻(ke)印通常用于有效(xiao)地制造晶(jing)圓級(ji)光學器(qi)件制造或EVG的(de)(de)(de)SmartNIL工藝所需的(de)(de)(de)母(mu)版(ban)(ban)。