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簡(jian)要描述(shu):納(na)米壓印(yin)支持(chi)多(duo)種標準(zhun)(zhun)(zhun)光(guang)刻(ke)工(gong)藝(yi),例如真空(kong),軟(ruan),硬和接近曝光(guang)模式(shi),并(bing)可選擇背面對(dui)準(zhun)(zhun)(zhun)。此(ci)外,該系統還為多(duo)功(gong)(gong)能配置提供(gong)了(le)附(fu)加功(gong)(gong)能,包括鍵對(dui)準(zhun)(zhun)(zhun)和納(na)米壓印(yin)光(guang)刻(ke)(NIL)。
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該設備支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。
EVG610提供快速(su)的(de)處理(li)和重新安裝工具,以改(gai)變(bian)用戶需求(qiu),光刻(ke)和NIL之間的(de)轉換(huan)時(shi)間僅為幾分鐘。其先進的(de)多用戶概念可以適(shi)應從初學者到專(zhuan)家級別的(de)所(suo)有需求(qiu),因此(ci)使其成為大(da)學和研(yan)發(fa)應用程(cheng)序的(de)理(li)想選擇。
圖1 微(wei)鏡頭
圖2 納米壓印結果(100納米分辨率)
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