1. 簡介

我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車削或直接寫入方法，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

2. 主(zhu)要應用

主要使用連續(xu)重復的納米壓印光刻技術(shu)，可(ke)進(jin)行有(you)效的母版制(zhi)作（例(li)如：微鏡頭制(zhi)作）。

3. 特色(se)

EVG770的(de)主要功(gong)(gong)能包(bao)括精確的(de)對準功(gong)(gong)能，全緬的(de)過程(cheng)控(kong)制(zhi)以及可(ke)滿足(zu)各種(zhong)設(she)備和應用(yong)需求的(de)靈活(huo)性。

4. 參數特征(zheng)

1）高效的晶圓級(ji)光學微透鏡主制造，直(zhi)至(zhi)SmartNIL的納米(mi)結構®

2）簡(jian)單實(shi)施(shi)不(bu)同類型(xing)的(de)主機

3）可變抗蝕劑分配模(mo)式

4）分配，壓印和脫(tuo)模過程中的(de)實時圖(tu)像

5）用于(yu)壓印和脫(tuo)模的(de)原位力控(kong)制

6）可(ke)選的(de)光學楔形誤(wu)差補償

7）可選(xuan)的自動(dong)盒帶間處理(li)

5. EVG770技術數(shu)據

1）晶圓直(zhi)徑（基板尺寸）：100至300毫米

2）解析(xi)度：≤50 nm（分辨率(lv)取決于模板和工藝）

3）支持的工藝(yi)：軟UV-NIL納米壓(ya)印

4）曝(pu)光源(yuan)：大功率LED（i線）> 100 mW /cm²

5）對準(zhun)：頂面顯微鏡，用(yong)于實時重疊校準(zhun)≤±500 nm和精細校準(zhun)≤±300 nm

6）弟一個印刷模具(ju)到模具(ju)的放置精度：≤1微米

7）有效印(yin)記區域：長達50 x 50毫米

8）自動分離：支持

9）預(yu)處理(li)功能：涂層：液滴(di)分配（可(ke)選）

6. 納米壓印(yin)工藝(yi)結(jie)果(guo)

圖1  微鏡頭

圖2  納米壓印結果(guo)（100納米分辨率）