它是一個基于模塊化和(he)(he)改(gai)進(jin)(jin)(jin)的(de)(de)SmartNIL模塊的(de)(de)獨立(li)系統，可(ke)以根據處(chu)(chu)理(li)和(he)(he)自動化水平進(jin)(jin)(jin)行(xing)配置。EVG7300支持從(cong)150毫米(mi)到300毫米(mi)的(de)(de)晶圓尺(chi)寸，具有低至300納(na)米(mi)的(de)(de)高(gao)精(jing)度對(dui)準，先進(jin)(jin)(jin)的(de)(de)過程(cheng)控制和(he)(he)高(gao)吞吐量，可(ke)以滿足各種(zhong)自由形狀和(he)(he)高(gao)精(jing)度納(na)米(mi)和(he)(he)微(wei)光(guang)學(xue)元件和(he)(he)器件的(de)(de)先進(jin)(jin)(jin)研發和(he)(he)大批量制造(zao)(HVM)需求。為了在HVM環境中集成(cheng)預處(chu)(chu)理(li)和(he)(he)后(hou)處(chu)(chu)理(li)流的(de)(de)必要性，該模塊可(ke)以集成(cheng)到HERCULES NIL系統中

這種(zhong)多功能系(xi)統(tong)旨在服務于(yu)廣泛(fan)的新興應用(yong)，包(bao)括微和(he)納(na)米壓(ya)印以(yi)及(ji)功能層的紫外線堆疊。因此，該設(she)備可(ke)以(yi)增強(qiang)晶(jing)圓級光學(WLO)，納(na)米光子學，超(chao)表面和(he)生(sheng)(sheng)物醫(yi)學芯片的工藝性能。這與(yu)行業(ye)對新型光學傳(chuan)感器(qi)和(he)光電子器(qi)件(jian)(jian)的需求(qiu)密切相關，例如(ru)自動駕駛(shi)，汽(qi)車和(he)裝飾(shi)照(zhao)明中的微透(tou)(tou)鏡(jing)陣(zhen)列和(he)投影(ying)儀，生(sheng)(sheng)物識別認證的衍射光學器(qi)件(jian)(jian)以(yi)及(ji)復雜(za)元透(tou)(tou)鏡(jing)的新興趨(qu)勢。利用(yong)這項技術的第一個(ge)應用(yong)已經存(cun)在于(yu)先進(jin)的生(sheng)(sheng)物醫(yi)學設(she)備和(he)增強(qiang)現實波導領域，其中納(na)米印跡(ji)技術可(ke)以(yi)實現復雜(za)設(she)計的高質量制造。

特點

· 靈活性:UV- nil系統在一個工具中實現(xian)三(san)個UV過程:SmartNIL, WLO和(he)堆疊

     · 精確控制多(duo)步(bu)工藝，包括對(dui)準，接觸和紫外(wai)線固化

     · 用于(yu)SmartNIL和WLO的(de)低力自動沖壓分離

· 可擴展性:加工(gong)高達300mm基板的晶圓

· 模塊化:獨立(li)模塊，以及集成到HERCULES NIL

 ;    · 基材搬(ban)運:從(cong)手動裝(zhuang)載到全自動操(cao)作

     · 可選的(de)自動郵票加載SmartNIL允許連續模(mo)式操作(zuo)

· 高(gao)級對齊功能

     · 實時(shi)校準<±300nm(取決于工藝)

· UV LED燈最高功率500mW/cm2

     · > 90%均勻度(du)

     · 可選:雙(shuang)波長工(gong)作:365nm和405nm

     · 不同的曝光模式

· 可選(xuan)特性

     · 光楔誤差補償(chang)(WEC)

     · 溫(wen)度控制

· 行(xing)業先(xian)進的工藝性能

     · 分辨率(lv)低至單(dan)納米范(fan)圍

     · 非常精確的殘余(yu)層控制(zhi)

技(ji)術(shu)數據

晶圓(yuan)直徑（襯底(di)尺寸）：最大300毫(hao)米

分辨率：≤10納米（視工(gong)藝及(ji)材料而(er)定，主料由客戶提供）

支持的進程：Lens Stacking、Lens Molding、SmartNIL®