當前位置:首頁 > 產品中心 > 膜厚儀 > Thetametrisis膜厚儀 > FR-Mic:全(quan)自動帶顯微(wei)鏡(jing)多點測(ce)量(liang)膜厚儀
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Product Category詳細介紹
硬化(hua)涂層(ceng)膜(mo)厚儀是一款快(kuai) 速、準(zhun)確測量薄膜(mo)表(biao)征應用的模(mo)塊(kuai)化(hua)解決(jue)方(fang)案,要求的光斑尺寸小到幾個微(wei)米,如微(wei)圖(tu)案表(biao)面,粗糙表(biao)面及許多(duo)其他表(biao)面。它可以配(pei)備一臺(tai)計算(suan)機控(kong) 制的XY工作臺(tai),使其快(kuai) 速、方(fang)便(bian)和(he)準(zhun)確地描繪樣品(pin)的厚度(du)和(he)光學(xue)特性圖(tu)。品(pin)牌屬于Thetametrisis。
Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外(wai)/ 可見/ 近紅外(wai)可輕易對(dui)局部區域(yu)薄膜(mo)厚度,厚度映射,光(guang)學常數,反(fan)射率(lv),折射率(lv)及消光(guang)系數進行測量。
【相關應用】
1.高校 & 研究所實驗室
2.半導體制造
3.(氧(yang)化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)
4.MEMS 器件(jian) (光刻(ke)膠, 硅膜等.)
5.LEDs, VCSELs
6.數據存儲
7.陽極處理
8.曲面(mian)基底的硬(ying)鍍(du)(du)及軟鍍(du)(du)
9.聚合物膜層, 粘(zhan)合劑
10.生物醫(yi)學(聚對二甲苯, 生 物膜/氣泡(pao)壁厚(hou)度.)
11.還有許多(duo)…
【Thetametrisis膜厚儀特點】
1、實時光譜測量
2、薄膜厚(hou)度(du)(du),光學特性(xing),非均勻性(xing)測量, 厚(hou)度(du)(du)映射
3、使用(yong)集成的(de),USB連接高品質(zhi)彩(cai)色(se)攝像機進行成像
【Thetametrisis膜厚儀產品優勢】
1、單擊(ji)即可分(fen)析(xi) (無需初始預(yu)測(ce))
2、動態測量
3、包含光(guang)學參(can)數 (n & k, color)
4、可保(bao)存測量演示(shi)視(shi)頻(pin)錄像(xiang)
5、超(chao)過 600 種不同材(cai)料o 多(duo)個離線(xian)分析配(pei)套裝置o 免費(fei)操作(zuo)軟件(jian)升級
【技術參數】
*測量面(mian)積(收集反射(she)或透射(she)信號的(de)面(mian)積)與顯(xian)微鏡物鏡和 FR-uProbe 的(de)孔徑(jing)大小有關(guan)
型號 | UV/VIS | UV/NIR-EXT | UV/NIR-HR | DUV/NIR | VIS/NIR | DVIS/NIR | NIR | |
光譜(pu)波長(chang)范(fan)圍(nm) | 200–850 | 200–1020 | 200-1100 | 200–1700 | 370–1020 | 370–1700 | 900–1700 | |
光譜儀像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648&512 | 3648 | 3648&512 | 512 | |
膜厚測量范圍 | 5X-VIS/NIR | 15nm–60μm | 15nm–70μm | 15nm–90μm | 15nm–150μm | 15nm–90μm | 15nm–150μm | 100nm–150μm |
10X-VIS/NIR 10X-UV/NIR* | 4nm–50μm | 4nm–60μm | 4nm–80μm | 4nm–130μm | 15nm–80μm | 15nm–130μm | 100nm–130μm | |
15X-UV/NIR* | 4nm–40μm | 4nm–50μm | 4nm–50μm | 4nm–120μm | – | – | – | |
20X-VIS/NIR 20X-UV/NIR* | 4nm–25μm | 4nm–30μm | 4nm–30μm | 4nm–50μm | 15nm–30μm | 15nm–50μm | 100nm–50μm | |
40X-UV/NIR* | 4nm–4μm | 4nm–4μm | 4nm–5μm | 4nm–6μm | – | – | – | |
50X-VIS/NIR | – | – | – | – | 15nm–5μm | 15nm–5μm | 100nm–5μm | |
測量n&k蕞小厚度 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm | |
光源 | 氘燈(deng)&鹵(lu)素燈(deng)(internal) | 鹵素燈(internal) | ||||||
材料數據庫 | >600不同材料 |
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物鏡 | 光斑尺寸(μm) | ||
500μm孔徑 | 250μm孔徑 | 100μm孔徑 | |
5x | 100μm | 50μm | 20μm |
10x | 50μm | 25μm | 10μm |
20x | 25μm | 17μm | 5μm |
50x | 10μm | 5μm | 2μm |
【工作原理】
*規格如有更改,恕(shu)不(bu)另行通知, 測(ce)量(liang)結果與校準的(de)(de)光(guang)譜橢偏儀和 XRD 相比較, 連續(xu) 15 天測(ce)量(liang)的(de)(de)標準方差(cha)(cha)平(ping)均值。樣品:1um SiO2 on Si., 100 次厚度測(ce)量(liang)的(de)(de)標準方差(cha)(cha),樣品:1um SiO2 on Si.
*超(chao)過(guo) 15 天的標(biao)準(zhun)偏(pian)差日平均值樣(yang)品:1um SiO2 on Si。
以上資料來自Thetametrisis,如果有需要(yao)更加詳細的信息,請聯系我們獲取。
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