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Product Category詳細介紹
Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述：
FR-pRo膜(mo)厚儀: 按需搭建的薄膜(mo)特性表征(zheng)工具。
FR-pRo膜厚(hou)儀是(shi)一個模塊化和(he)可擴(kuo)展平臺的光學測量設備(bei)，用于表(biao)征厚(hou)度范(fan)圍為1nm-1mm 的涂層。
FR-pRo膜厚儀是(shi)為客戶量身定制的，并廣泛應用(yong)于各種不同的應用(yong)。
比如：
吸收率(lv)/透射(she)率(lv)/反射(she)率(lv)測(ce)量(liang)，薄膜特(te)性在溫度和環(huan)(huan)境(jing)控制下(xia)甚至(zhi)在液體(ti)環(huan)(huan)境(jing)下(xia)的表征等等…
Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用：
1、大學&研(yan)究實(shi)驗室
2、半導體行業
3、高分子聚合物&阻抗表征
4、電介質特性表征
5、生物醫學
6、硬(ying)涂(tu)層，陽極氧化(hua)，金屬零件加工
7、光學鍍膜
8、非金(jin)屬薄膜等等…
FR-pRo膜厚(hou)儀(yi)可由(you)用戶按(an)需選擇(ze)裝配(pei)模塊(kuai)，核 心部件包括光源，光譜儀(yi)（適用于 200nm-2500nm 內的任(ren)何光譜系統(tong)）和控制單元(yuan)，電子通(tong)訊(xun)模塊(kuai)。
此外，還有各(ge)種(zhong)各(ge)種(zhong)配件，比如:
1.用于測量吸收率(lv)/透射率(lv)和化(hua)學(xue)濃度的薄膜/試管(guan)架；
2.用于表(biao)征涂層特(te)性(xing)的薄膜厚(hou)度(du)工具；
3.用于(yu)控制溫度或液體環(huan)境(jing)下測(ce)量的加熱裝置或液體試劑(ji)盒；
4.漫反(fan)射(she)和全反(fan)射(she)積(ji)分球。
通過不同(tong)模塊組合，蕞終的(de)配(pei)置可以滿足(zu)任何終端用(yong)戶的(de)需求。
Specificatins 規格(ge)：
Model | UV/Vis | UV/NIR -EXT | UV/NIR-HR | D UV/NIR | VIS/NIR | D Vis/NIR | NIR |
光譜范圍 (nm) | 200 – 850 | 200 –1020 | 200-1100 | 200 – 1700 | 370 –1020 | 370 – 1700 | 900 – 1700 |
像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648 & 512 | 3648 | 3648 & 512 | 512 |
厚度范圍 | 1nm – 80um | 3nm – 80um | 1nm – 120um | 1nm – 250um | 12nm – 100um | 12nm – 250um | 50nm – 250um |
測(ce)量n*k 蕞小范圍 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm |
準確度*,** | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 2nm or 0.2% | 3nm or 0.4% |
精度*,** | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.1nm |
穩定性*,** | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.15nm |
光源 | 氘燈 & 鎢鹵素燈(內置) | 鎢鹵素燈(內置) | |||||
光斑 (直徑) | 350um (更小光斑可(ke)根據(ju)要求選配) | ||||||
材料數據庫 | > 600 種不同材料(liao) | ||||||
Accessries 配件：
電腦 | 19 英寸屏幕的筆(bi)記(ji)本電腦/觸摸(mo)屏電腦 |
聚焦模塊 | 光學聚焦(jiao)模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um |
薄膜/比色皿容器 | 在標準器(qi)皿(min)中對薄膜或(huo)液體(ti)的透射率(lv)測量(liang) |
接觸式探頭 | 用于涂(tu)層(ceng)厚度測量和(he)光學測量的配件，適用于彎曲表面和(he)曲面樣品 |
顯微鏡 | 用于高橫向分辨率(lv)的反射率(lv)及厚度顯(xian)微測量 |
Scanner (motorized) | 帶(dai)有圓晶卡盤(pan)的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動化樣(yang)(yang)(yang)品臺(tai)(tai)可(ke)選(xuan)，Polar（R-Θ）樣(yang)(yang)(yang)品臺(tai)(tai)支持反射(she)率測量，Cartesian（X-Y）樣(yang)(yang)(yang)品臺(tai)(tai)支持反射(she)率和透射(she)率測量 |
積分球 | 用于(yu)表(biao)征涂層(ceng)和表(biao)面(mian)的鏡面(mian)反射和漫(man)反射 |
手動(dong) X-Y 樣品(pin)臺(tai) | 測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的(de)x - y 手(shou)動平臺 |
加熱模塊 | 嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運行(xing)可編(bian)程溫控(kong)器(0.1 oC 精度). |
液體模塊 | 聚(ju)四(si)氟乙烯容器，用于通過(guo)石(shi)英光學窗(chuang)口測量在液(ye)體中(zhong)的樣品。樣品夾具， 用(yong)于(yu)將樣品(pin)插入可處(chu)理 30mmx30mm 樣品(pin)的液體中 |
流通池 | 液體中吸光率(lv)、微量(liang)熒光測量(liang) |
工作原理：
白光(guang)反(fan)(fan)射光(guang)譜(WLRS)是測(ce)量(liang)垂直于樣品表(biao)面的某一波段的入射光(guang)，在經多層(ceng)或單(dan)層(ceng)薄(bo)(bo)膜(mo)反(fan)(fan)射后，經界面干涉產(chan)生(sheng)的反(fan)(fan)射光(guang)譜可確定單(dan)層(ceng)或多層(ceng)薄(bo)(bo)膜(mo)（透(tou)明，半透(tou)明或全反(fan)(fan)射襯(chen)底）的厚度及 N*K 光(guang)學常(chang)數(shu)。
* 規格如有更改，恕不另行通知; ** 厚度測(ce)量(liang)范圍即代 表光譜范圍，是基(ji)于在高反射襯底(di)折射率為(wei) 1.5 的單層膜測(ce)量(liang)厚度。
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