Thetametrisis膜厚測量儀

簡要描述(shu)：Thetametrisis膜厚(hou)測(ce)量(liang)儀FR-pRo是(shi)一(yi)個模塊化(hua)和可擴展平臺的(de)光學測(ce)量(liang)設備，用(yong)于表征厚(hou)度范(fan)圍為1nm-1mm 的(de)涂層。

產品(pin)型號：FR-pRo
廠商性質(zhi)：代理商
產品資料(liao)：
更(geng)新(xin)時(shi)間：2024-04-18
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Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述：

FR-pRo膜厚儀: 按需搭(da)建的薄(bo)膜特性表(biao)征工具。

FR-pRo膜厚(hou)儀是一(yi)個模塊化和(he)可擴展平臺(tai)的光學測量設備，用于表征(zheng)厚(hou)度(du)范圍為1nm-1mm 的涂(tu)層。

FR-pRo膜厚儀(yi)是為客(ke)戶量身定(ding)制的，并(bing)廣泛應用(yong)于各種不(bu)同的應用(yong)。

比如：

吸收率/透射率/反射率測(ce)量，薄膜特(te)性在溫度和環境控(kong)制下甚至在液體環境下的表征等(deng)等(deng)…

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用：

1、大學&研究實驗室

2、半導體行業(ye)

3、高分(fen)子聚合物&阻抗表征

4、電介質特性表征(zheng)

5、生物醫學

6、硬涂(tu)層(ceng)，陽(yang)極(ji)氧化，金(jin)屬零件加(jia)工

7、光學鍍膜

8、非金屬(shu)薄膜等等…

FR-pRo膜(mo)厚儀可由用(yong)(yong)戶按(an)需選擇裝配模塊，核心部(bu)件包括光源，光譜(pu)儀（適用(yong)(yong)于(yu) 200nm-2500nm 內的任何光譜(pu)系統）和控制單元，電(dian)子通訊模塊。

此外，還有各種各種配件，比如:

1.用(yong)于測量吸收率(lv)/透射率(lv)和化學濃度的薄膜(mo)/試管架；

2.用于表(biao)征(zheng)涂層特性的薄膜厚(hou)度(du)工具；

3.用于控(kong)制溫(wen)度或液體環境下測量的(de)加熱裝置或液體試劑盒；

4.漫(man)反射和全反射積分球。

通過不同模(mo)塊組合，蕞終(zhong)的配置可以滿足任何終(zhong)端用戶的需求。

Specificatins 規格：

Model	UV/Vis	UV/NIR -EXT	UV/NIR-HR	D UV/NIR	VIS/NIR	D Vis/NIR	NIR
光(guang)譜范(fan)圍 (nm)	200 – 850	200 –1020	200-1100	200 – 1700	370 –1020	370 – 1700	900 – 1700
像(xiang)素	3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512
厚度范圍(wei)	1nm – 80um	3nm – 80um	1nm – 120um	1nm – 250um	12nm – 100um	12nm – 250um	50nm – 250um
測量(liang)n*k 蕞小范圍(wei)	50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm
準確度,*	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	2nm or 0.2%	3nm or 0.4%
精度,*	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.1nm
穩定性,*	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.15nm
光源	氘(dao)燈 & 鎢鹵(lu)素燈(內置(zhi))				鎢鹵素燈(deng)(內置)
光斑 (直徑)			350um (更小光(guang)斑可根據要求選配)
材料數據庫				> 600 種不同材料

Accessries 配件(jian)：

電腦	19 英寸(cun)屏幕(mu)的筆記本電腦/觸摸屏電腦
聚(ju)焦模塊(kuai)	光學聚焦模塊安裝在反射(she)探頭(tou)上，光斑尺寸＜100um
薄膜/比色皿容器	在(zai)標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量(liang)
接觸式探頭(tou)	用于涂層厚度測量(liang)和光學測量(liang)的配件，適用于彎曲表(biao)面和曲面樣品(pin)
顯微(wei)鏡	用于高橫向分辨率(lv)的(de)反射率(lv)及厚(hou)度顯微測量
Scanner (motorized)	帶有圓晶卡(ka)盤(pan)的(de)Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動化樣品(pin)(pin)臺可選，Polar（R-Θ）樣品(pin)(pin)臺支(zhi)持反(fan)射(she)率測量，Cartesian（X-Y）樣品(pin)(pin)臺支(zhi)持反(fan)射(she)率和透射(she)率測量
積分(fen)球	用于表征涂層和表面(mian)的鏡面(mian)反射和漫反射
手動(dong) X-Y 樣品臺	測(ce)量面(mian)積為(wei) 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺
加(jia)熱模塊	嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運(yun)行可(ke)編程溫控器(0.1 oC 精度).
液體模塊	聚四氟乙(yi)烯容(rong)器(qi)，用(yong)于通過(guo)石英光學窗口測量在液體中的(de)樣品。樣品夾具，用(yong)于將樣品插入可(ke)處理 30mmx30mm 樣品的液(ye)體(ti)中
流通(tong)池(chi)	液體中吸(xi)光率(lv)、微量熒光測量

工作原理：

白光(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)光(guang)譜(WLRS)是測量(liang)垂直于(yu)樣品表面的(de)某一(yi)波段的(de)入射(she)光(guang)，在經(jing)多層或(huo)單層薄膜(mo)反(fan)(fan)(fan)射(she)后，經(jing)界(jie)面干涉產生的(de)反(fan)(fan)(fan)射(she)光(guang)譜可確定單層或(huo)多層薄膜(mo)（透明(ming)，半透明(ming)或(huo)全(quan)反(fan)(fan)(fan)射(she)襯底(di)）的(de)厚度及(ji) N*K 光(guang)學常數。

* 規(gui)格如有更(geng)改，恕不另行(xing)通知(zhi); ** 厚度(du)測量(liang)范圍即代表光譜范圍，是基于(yu)在高反(fan)射襯底折射率為(wei) 1.5 的(de)單層膜測量(liang)厚度(du)。