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研發(fa)和小規模生產中的單(dan)晶圓(yuan)光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機在單(dan)室設(she)計上可(ke)以滿足研發(fa)工作，與(yu)EVG的自(zi)動化系統*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓(yuan)，可(ke)配置(zhi)為(wei)旋涂或(huo)噴涂和顯影。