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?新型(xing)IQ Aligner NT具有高強度(du)(du)(du)和(he)高均(jun)勻度(du)(du)(du)的曝光(guang)光(guang)學器件，新的晶圓(yuan)(yuan)處理(li)硬件，可實現(xian)全局(ju)多點對(dui)準的200mm和(he)300mm晶圓(yuan)(yuan)全覆蓋范圍以(yi)及優化的工具軟件，從(cong)而(er)使生產率提高了(le)2倍與EVG上一(yi)代IQ Aligner相比(bi)，對(dui)準精度(du)(du)(du)提高了(le)2倍。該(gai)系統超(chao)越(yue)了(le)晶圓(yuan)(yuan)凸塊和(he)其他后端光(guang)刻應用的蕞苛刻要(yao)求，同時與競(jing)爭系統相比(bi)，擁有成本降低(di)了(le)30％。

EVG620 NT-掩模對準(zhun)光刻機系統EVG ® 620 NT提供國家的本(ben)領域(yu)掩模對準(zhun)技術在小化的占位(wei)面積，支持(chi)高達150毫米晶(jing)圓(yuan)尺寸。

EVG610-單面、雙面光刻(ke)系(xi)統(tong)(tong) EVG光刻(ke)機EVG®610是(shi)一款緊湊型多(duo)功能研發系(xi)統(tong)(tong)，可處理零碎片和大200 mm的晶圓。

EVG6200 NT掩(yan)模對(dui)準光刻系統 特色：EVG ® 6200 NT掩(yan)模對(dui)準器為光學雙面光刻的多功(gong)能工具和晶(jing)片尺寸(cun)高達200毫米。

IQ Aligner 自(zi)動掩(yan)模對準系(xi)統 用于自(zi)動非(fei)接觸近距離(li)掩(yan)模對準光刻，進(jin)行了處理(li)和(he)優化，用于晶圓片的尺(chi)寸高(gao)達200毫米。

研發和小規模生產中(zhong)的單(dan)晶(jing)(jing)圓(yuan)光刻膠(jiao)加工。$nEVG101光刻膠(jiao)勻膠(jiao)機在單(dan)室設計(ji)上可以(yi)滿足研發工作，與(yu)EVG的自(zi)動化系統*兼容。EVG101支持大300 mm的晶(jing)(jing)圓(yuan)，可配(pei)置為旋涂或噴涂和顯影。