優勢：

1、微光(guang)(guang)斑(ban)功能： 標準(zhun)配(pei)置(zhi)微光(guang)(guang)斑(ban) 光(guang)(guang)斑(ban)尺寸80x120微米。特殊光(guang)(guang)學(xue)設計與研磨(mo)級高精度Z軸搭配(pei)可(ke)自動(dong)移(yi)除透明(ming)襯底背面反射.對焦(jiao)過程中可(ke)自動(dong)判定(ding)膜層的對焦(jiao)位置(zhi)，并通(tong)過光(guang)(guang)學(xue)狹縫克(ke)服透明(ming)襯底背后反射

2、采用訊(xun)號自動對焦，量(liang)測訊(xun)號與對焦訊(xun)號為(wei)同一訊(xun)號 有效避免量(liang)測的位(wei)置誤差。

3、檢偏器自動追蹤：大幅提升橢偏儀量測(ce)精度,特別有利于極薄膜(mo)層(ceng)的(de)材料分析(xi)以及ψ與Δ之精度

4、電動自動可調變衰減(jian)片：可自動或手動調整不同樣(yang)品(pin)訊(xun)號飽和程度(100%~0.1%)，并可分段設置UV訊(xun)號與可見(jian)光(guang)訊(xun)號強度以便(bian)獲取最(zui)佳量測(ce)訊(xun)號

5、軟(ruan)件(jian)自(zi)動(dong)分(fen)析擬合：提供膜厚(hou) 折(zhe)射率預分(fen)析功能，未知材(cai)料的(de)數據庫比對能力,軟(ruan)件(jian)自(zi)動(dong)分(fen)析簡化(hua)操作,克服橢偏儀一向由專業人士操作帶來的(de)量測困難。

6、遠程(cheng)遙控：突(tu)破橢偏儀需到場服務(wu)與培(pei)訓之限制,大幅提升售后服務(wu)之效率(lv)

7、高質量DUV光譜儀： 光譜范(fan)圍220nm-1100nm,（可(ke)(ke)選配至1700nm)分辨率(lv)<1nm 自帶半導體制冷,高動態比(bi)，訊噪比(bi)盡可(ke)(ke)能的減小噪聲影響

8、自動生(sheng)成2D或3D Mapping 圖(tu)譜(pu)并(bing)自動數據分(fen)析(xi)，光譜(pu)自動保存，數據可匯總及上傳

9、以recipe設置(zhi) 測試時間(jian)大幅縮短至(zhi)1-3秒，提高測試效率。

10、設計上 采用抗紫外鈍化光(guang)纖雙光(guang)纖結構，先進的(de)斷(duan)開(kai)功能,大幅提(ti)升(sheng)光(guang)譜穩(wen)定性和(he)長期使用的(de)可靠性。

11、高穩定性 標準片 膜厚重復性精(jing)度<0.5A,折射率(lv)重復精(jing)度<0.0005

12、膜(mo)厚測試(shi)范圍(wei)1nm-20微米 可(ke)針對透明(ming)或不(bu)透明(ming)襯底測試(shi)

13、免費建模

規格：

光學原理：

光(guang)波從接觸到(dao)光(guang)學(xue)組(zu)件表面(mian)，到(dao)離開光(guang)學(xue)組(zu)件表面(mian)的短暫(zan)時(shi)間里，其偏極(ji)狀態（polarization state)一定會改變(bian)。橢圓偏(pian)光儀，既是(shi)一種用來量測光波穿透光(guang)學組(zu)件(jian)(jian)，或從光(guang)學組(zu)件(jian)(jian)表面反射(she)前后(hou)偏極(ji)狀態改變(bian)情(qing)形的儀器。由于此種偏極狀(zhuang)態(tai)的改變是光(guang)波(bo)與光(guang)學組件材(cai)料產生交互作(zuo)用的結(jie)果，因此可由(you)偏(pian)極狀(zhuang)態的改變情形(xing)，反推得到光學組件表面的物理特性。這里所謂(wei)的光學組件表(biao)面(mian)有可(ke)能是光學組件的表(biao)面(mian)，也有可(ke)能是單層膜或多(duo)層膜的堆棧，也可能是光學組件表面的污染層(ceng)。
光(guang)藉由非零(ling)度入(ru)射角至樣品表面而(er)反射, 因(yin)為(wei)樣品的厚度及對光(guang)的反應（吸收或透明…）而產生極化狀態的改變（產生相位及振(zhen)幅的改變），此量測方式我(wo)們(men)稱(cheng)為橢(tuo)圓儀量(liang)測。量(liang)測時(shi)對于每(mei)個波長(chang),我(wo)們(men)得(de)到兩個獨立的(de)參數Ψ and △