納米壓印機具有紫外線(xian)納米壓印(yin)功能的通用研發掩膜對準系統，支持(chi)尺寸從碎片(pian)到(dao)最大(da)150毫米。
該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。納米壓印機提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。
對于壓(ya)(ya)印(yin)工藝，本(ben)產(chan)品(pin)(pin)允(yun)許基板的(de)(de)(de)尺寸從小芯(xin)片尺寸到直徑150毫(hao)米(mi)不(bu)等。納米(mi)技術(shu)應用(yong)的(de)(de)(de)配置除了可(ke)編程(cheng)的(de)(de)(de)高(gao)和低接觸(chu)力外，還可(ke)以包括印(yin)章的(de)(de)(de)釋(shi)放機制。本(ben)產(chan)品(pin)(pin)專有(you)的(de)(de)(de)卡(ka)盤(pan)設計可(ke)提供均勻的(de)(de)(de)接觸(chu)力，以實現高(gao)產(chan)量的(de)(de)(de)壓(ya)(ya)印(yin)，該卡(ka)盤(pan)設計既支持軟(ruan)印(yin)章也支持硬印(yin)章。
納米壓印機的使用特(te)征：
1、頂部和底(di)部對準能力；
2、高精度對準(zhun)臺；
3、自動楔(xie)形誤差(cha)補償機(ji)制(zhi)；
4、電動和配方(fang)控(kong)制(zhi)的曝光間隙；
5、支持最(zui)新的UV-LED技(ji)術；
6、最小化系統占地面積和設施要求(qiu)；
7、分步流程指導；
8、遠程技術支持；
9、多用戶概念；
10、敏捷處(chu)理和光(guang)刻工藝之間的轉(zhuan)換；
11、臺式(shi)或帶防震花崗巖臺的單機版。
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